多功能磁控濺射儀(濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))

技術(shù)參數(shù)腔體尺寸: Ø300mm,400mm高； 泵體:260l/s Turbo泵,含有泵前過濾膜； 蒸發(fā)方式: 用戶可選擇熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible), 電子束蒸發(fā)或濺射蒸發(fā)； 樣品夾具: 多類型,有rotation, heating, cooling, biasing； 樣品尺寸可到Ø250mm,或者多個小樣品； 設(shè)備大小:一般 495 X 555 X 1302毫米；
 
主要特點(diǎn)
此系統(tǒng)包含大多數(shù)的真空薄膜鍍層技術(shù): 熱蒸發(fā)(boat evaporation or crucible)，電子束蒸發(fā)，濺射沉積。
這樣我們在一臺設(shè)備上可以靈活運(yùn)用多種膜生長技術(shù),針對各種不同大小和形狀的樣品,非常方便切換沉積模式。
腔體的開放式設(shè)計,使得樣品大小從幾毫米到250毫米均可鍍層。樣品夾具可以輕松固定多個樣品并同時鍍膜。此系統(tǒng)真空腔內(nèi)連接一個300mm寬的快速通道門,可以非常方便和快速地切換樣品和靶源。這對于薄膜制備研究機(jī)構(gòu),面對多種材料增加或改變沉積方式,轉(zhuǎn)換起來非常方便,并沒有任何空間限制。
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此系統(tǒng)為模塊式設(shè)計,可以針對用戶的具體應(yīng)用來訂制設(shè)計結(jié)構(gòu)。
 
儀器介紹
在所有的小型高真空鍍膜設(shè)備中,此設(shè)備功能強(qiáng)大,性能價格比非常好。
鍍膜方式包含了熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā)和磁控濺射沉積。
由于它的模塊化設(shè)計,使得多數(shù)研發(fā)人員用起來非常方便,針對各種樣品易于轉(zhuǎn)換沉積條件,是研究人員不可獲缺的鍍膜工具!
 

NPGS美國電子束曝光系統(tǒng)(納米圖形發(fā)生系統(tǒng))（南京覃思）

電子束曝光系統(tǒng)（electron beam lithography, EBL）是一種利用電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形的裝置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式與電子束曝光機(jī)十分相近，美國JC Nabity Lithography Systems公司成功研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡稱NPGS，又稱電子束微影系統(tǒng)）。電子束曝光技術(shù)具有可直接刻畫精細(xì)圖案的優(yōu)點(diǎn)，且高能電子束的波長短（< 1 nm），可避免繞射效應(yīng)的困擾，是實驗室制作微小納米電子元件理想選擇。相對于購買昂貴的用電子束曝光機(jī)臺，以既有的SEM等為基礎(chǔ)，外加電子束控制系統(tǒng)，透過電腦介面控制電子顯微鏡中電子束之矢量掃描，以進(jìn)行直接刻畫圖案，在造價方面可大幅節(jié)省，且兼具原SEM 的觀測功能，在功能與價格方面均具有優(yōu)勢。由于其具有高分辨率以及低成本等特點(diǎn)，在北美研究機(jī)構(gòu)中，JC Nabity的NPGS是非常熱銷的配套于掃描電鏡的電子束微影曝光系統(tǒng)，而且它的應(yīng)用在各地越來越廣泛。NPGS的技術(shù)目標(biāo)是提供一個功能強(qiáng)大的多樣化簡易操作系統(tǒng)，結(jié)合使用市面上已有的掃描電鏡、掃描透射電鏡或聚焦離子束裝置，用來實現(xiàn)藝術(shù)的電子束或離子束平版印刷技術(shù)。NPGS能成功滿足這個目的，得到了當(dāng)眾多用戶的強(qiáng)烈推薦和一致肯定。一. 技術(shù)描述：為滿足納米電子束曝光的要求，JC Nabity的NPGS系統(tǒng)設(shè)計了一個納米圖形發(fā)生器和數(shù)模轉(zhuǎn)換電路，并采用PC機(jī)控制。PC機(jī)通過圖形發(fā)生器和數(shù)模轉(zhuǎn)換電路去驅(qū)動SEM等儀器的掃描線圈，從而使電子束偏轉(zhuǎn)并控制束閘的通斷。通過NPGS可以對標(biāo)準(zhǔn)樣片進(jìn)行圖像采集以及掃描場的校正。配合精密定位的工件臺，還可以實現(xiàn)曝光場的拼接和套刻。利用配套軟件也可以新建或?qū)攵喾N通用格式的曝光圖形。（一） 電子源（Electron Source）曝照所需電子束是由既有的SEM、STEM或FIB產(chǎn)生的電子束（離子束）提供。（二） 電子束掃描控制（Beam Scanning Control）電子射出后，受數(shù)千乃至數(shù)萬伏特之加速電壓驅(qū)動沿顯微鏡中軸向下移動，并受中軸周圍磁透鏡（magnetic lens）作用形成聚焦電子束而對樣本表面進(jìn)行掃描與圖案刻畫。掃描方式可分為循序掃描（raster scan）與矢量掃描（vector scan）。循序掃描是控制電子束在既定的掃描范圍內(nèi)進(jìn)行逐點(diǎn)逐行的掃描，掃描的點(diǎn)距與行距由程式控制，而當(dāng)掃描到有微影圖案的區(qū)域時，電子束開啟進(jìn)行曝光，而當(dāng)掃描到無圖案區(qū)域時，電子束被阻斷；矢量掃描則是直接將電子束移動到掃描范圍內(nèi)有圖案的區(qū)域后開啟電子束進(jìn)行曝光，所需時間較少。掃描過程中，電子束的開啟與阻斷是由電子束阻斷器（beam blanker）所控制。電子束阻斷器通常安裝在磁透鏡組上方，其功效為產(chǎn)生一大偏轉(zhuǎn)磁場使電子束完全偏離中軸而無法到達(dá)樣本。（三） 阻劑（光阻）阻劑（resist）是轉(zhuǎn)移電子束曝照圖案的媒介。阻劑通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。高能電子束的照射會改變阻劑材料的特性，再經(jīng)過顯影（development）后，曝照（負(fù)阻劑）或未曝照（正阻劑）的區(qū)域?qū)粼诨谋砻，顯出所設(shè)計的微影圖案，而后續(xù)的制程將可進(jìn)一步將此圖案轉(zhuǎn)移到阻劑以下的基材中。PMMA（poly-methyl methacrylate）是電子束微影中很常用的正阻劑，是由單體甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate, MMA）經(jīng)聚合反應(yīng)而成。用在電子阻劑的PMMA 通常分子量在數(shù)萬至數(shù)十萬之間，受電子束照射的區(qū)域PMMA 分子量將變成數(shù)百至數(shù)千，在顯影時低分子量與高分子量PMMA 溶解度的對比非常大。負(fù)阻劑方面，多半由聚合物的單體構(gòu)成。在電子束曝照的過程中會產(chǎn)生聚合反應(yīng)形成長鏈或交叉鏈結(jié)（crosslinking）聚合物，所產(chǎn)生的聚合物較不易被顯影液溶解因而在顯影后會留在基板表面形成微影圖案。目常用的負(fù)阻劑為化學(xué)倍增式阻劑（chemically amplified resist），經(jīng)電子束曝照后產(chǎn)生氫離子催化鏈結(jié)反應(yīng)，具有高解析度、高感度，且抗蝕刻性高。（四） 基本工序電子束微影曝光技術(shù)的基本工序與光微影曝光技術(shù)相似，從上阻、曝照到顯影，各步驟的參數(shù)（如溫度、時間等等）均有賴于使用者視需要進(jìn)行校對與調(diào)整。二. 主要技術(shù)指標(biāo)：型號：NPGS細(xì)線寬（μm）：根據(jù)SEM小束斑（μm）：根據(jù)SEM掃描場：可調(diào)加速電壓：根據(jù)SEM，一般為0-40kV速度：5MHz（可選6MHz）A. 硬件：微影控制介面卡：NPGS PCI-516A High Speed Lithography Board，high resolution （0.25%）控制電腦：Pentium IV 3.0GHz/ 512Mb RAM/ 80G HD/ Windows XP皮可安培計：KEITHLEY 6485 PicoammeterB. 軟件：微影控制軟件 NPGS V9.1 for Windows2000 或 XP 圖案設(shè)計軟件 DesignCAD LT 2000 for Windows三. 應(yīng)用簡述NPGS電鏡改裝系統(tǒng)能夠制備出具有高深寬比的微細(xì)結(jié)構(gòu)納米線條，從而為微電子域如高精度掩模制作、微機(jī)電器件制造、新型IC研發(fā)等相關(guān)的微/納加工技術(shù)提供了新的方法。NPGS系統(tǒng)作為制作納米尺度的微小結(jié)構(gòu)與電子元件的技術(shù)平臺，以此為基礎(chǔ)可與各種制程技術(shù)與應(yīng)用結(jié)合。應(yīng)用范圍和域取決于客戶的現(xiàn)有資源，例如： NPGS電子束曝光系統(tǒng)可與等離子應(yīng)用技術(shù)做很有效的整合，進(jìn)行各項等離子制程應(yīng)用的開發(fā)研究，簡述如下：（一） 半導(dǎo)體元件制程等離子制程已廣泛應(yīng)用于當(dāng)半導(dǎo)體元件制程，可視為電子束微影曝光技術(shù)的下游工程。例如：（1） 等離子刻蝕（plasma etching）（2） 等離子氣相薄膜沉積（plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD）（3） 濺鍍（sputtering）（二） 微機(jī)電元件制程（Semiconductor Processing）微機(jī)電元件在制程上與傳統(tǒng)半導(dǎo)體元件制作有其差異性。就等離子相關(guān)制程而言，深刻蝕（deep etching）是主要的應(yīng)用，其目標(biāo)往往是完成深寬比達(dá)到102 等的深溝刻蝕或晶圓穿透刻蝕。而為達(dá)成高深寬比，深刻蝕采用二種氣體等離子交替的過程。刻蝕完成后可輕易以氧等離子去除側(cè)壁覆蓋之高分子。在微機(jī)電元件制作上，深刻蝕可與電子束微影曝光技術(shù)密切結(jié)合。電子束微影曝光技術(shù)在圖案設(shè)計上之自由度十分符合復(fù)雜多變化的微機(jī)電元件構(gòu)圖。一旦完成圖案定義，將轉(zhuǎn)由深刻蝕技術(shù)將圖案轉(zhuǎn)移到晶圓基板。

該公司產(chǎn)品分類： 圖像分析 細(xì)胞分析儀 電鏡制樣 電子顯微鏡

電子束實驗儀

 

一，用途及實驗內(nèi)容：
 
                     1，實驗一：電偏傳-電子束+橫向電場
                     2，實驗二：電聚焦-電子束+縱向電場
                     3，實驗三：磁偏傳-電子束+橫向磁場
                     4，實驗四：螺旋運(yùn)動、磁聚焦-電子束+縱向磁場
二，主要技術(shù)規(guī)格
1、示波管
　　聚焦電壓：280～380V加速電壓：950～1300V
　　偏轉(zhuǎn)電壓：-50～+50V
　　Y軸電偏轉(zhuǎn)靈敏度>0.7mm/V
　　Y軸偏轉(zhuǎn)靈敏度>0.3mm/mA
2、適應(yīng)電源： 220V   50Hz
3、消耗功率：50W
4、外形尺寸：55×385×200 （180）mm
5、總重量：10kg
 
 
該公司產(chǎn)品分類： 軸承殘磁測定儀CJZ-3 軸承殘磁測定儀CJZ-3 近代物理實驗儀器 采暖通風(fēng)與空調(diào)制冷 流體力學(xué)類實驗儀器 熱工類實驗儀器 燃?xì)夤こ填悓嶒瀮x器 演示實驗儀器 磁測量實驗儀器 電磁學(xué)實驗儀器 光學(xué)及綜合實驗儀器 力熱實驗儀器

美國Temescal公司電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

 

美國Temescal公司電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
 產(chǎn)品概述
美國Temescal公司成立于1952年，是真空電子束蒸鍍技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者，提供最先進(jìn)的精密鍍膜系統(tǒng)以及電子槍組件。Temescal在精確控制材料蒸氣云分布方面擁有豐富的經(jīng)驗與獨(dú)到的技術(shù)，典型材料如鈦、鉑、金、鈀、銀、鎳、鋁、鉻、銅、鉬、錫、二氧化硅、氧化銦錫，可獲得優(yōu)異的薄膜沉積均勻性和一致性。Temescal總部在美國加州，擁有獨(dú)立完善的設(shè)計、制造、銷售和研發(fā)部門，其關(guān)鍵技術(shù)優(yōu)勢著重體現(xiàn)于成套沉積系統(tǒng)和電子槍組件。在高亮度LED、GaAs基無線通信芯片、光通訊器件、太陽能光伏、微機(jī)械（MEMS）和聲表器件（SAW）等領(lǐng)域擁有很高的聲譽(yù)和眾多著名用戶。Temescal完美的工藝實現(xiàn)能力包括：高均勻性多層膜系工藝設(shè)計，最先進(jìn)的大功率電子槍及控制電源，無死角操作的雙開門設(shè)計，潔凈無油真空系統(tǒng)，多種精密工件架，全自動薄膜工藝控制系統(tǒng)，等等。
 產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 業(yè)內(nèi)獨(dú)有的真空鎖式批量蒸鍍系統(tǒng)2. 整個電子束蒸發(fā)源可與腔室分離并轉(zhuǎn)到設(shè)備框架之外3. 高性能電子槍和控制器4. 所有OEM組件均來自世界一流供應(yīng)商5. 豐富的剝離（Lift-off）工藝經(jīng)驗6. 高均勻性和高材料利用率7. 可靠靈活的全自動控制系統(tǒng)8. 設(shè)備性能完全滿足24/7的嚴(yán)格的FAB生產(chǎn)要求9. 專業(yè)的工藝研發(fā)和技術(shù)支持
 技術(shù)參數(shù)
主要型號1. FC4400Temescal最大型標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)，真空鎖結(jié)構(gòu)設(shè)計，適合150mm以上基片工藝的產(chǎn)能最大化要求2. FC3800Temescal大型標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)，真空鎖結(jié)構(gòu)設(shè)計，適合各種高產(chǎn)能應(yīng)用要求3. FC/BCD2800Temescal中型生產(chǎn)設(shè)備，真空鎖結(jié)構(gòu)可選，適合100mm~150mm晶圓工藝生產(chǎn)4. FC/BJD2000Temescal小型標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)，尤其適合小規(guī)模生產(chǎn)和研發(fā)
 
設(shè)備產(chǎn)能

設(shè)備型號
FC/BJD-2000
FC/BCD-2800
FC-3800
FC-4400
2inch 晶圓
42
N/A
N/A
N/A
3inch 晶圓
17
47
N/A
N/A
100mm晶圓
13
25
53
55
150mm晶圓
5
12
25
30
200mm晶圓
N/A
6
14
15

 主要應(yīng)用
• 高亮度 LED
• 無線通信 Wireless infrastructure
• 微機(jī)電 MEMS
• 表面聲波器件 SAW

聯(lián)系人：張先生 139- （#qq.com）

該公司產(chǎn)品分類： 微波等離子CVD 擴(kuò)散爐 離子束刻蝕/沉積系統(tǒng) 多功能薄膜沉積系統(tǒng) 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) 表面缺陷檢測系統(tǒng) 精密激光加工系統(tǒng) 平行縫焊機(jī) 清洗機(jī) 貼片機(jī) 鍵合機(jī) 真空共晶回流焊爐 超聲波掃描顯微鏡 X光無損檢測系統(tǒng) 推拉力測試機(jī)

真空電子束焊機(jī)真空泵

供應(yīng)真空電子束焊機(jī)真空泵，電子束在配置大路通DLT.V0300真空泵的真空環(huán)境里焊接因具有不用焊條、不易氧化、工藝重復(fù)性好及熱變形量小的優(yōu)點(diǎn)而廣泛應(yīng)用于航空航天、原子能、國防及軍工、汽車和電氣電工儀表等眾多行業(yè)。電子束焊接要求真空度很高，一般是需要配置多臺真空泵才能達(dá)到要求，大路通DLT.V0300真空泵是一款結(jié)構(gòu)緊湊,堅固耐用,安全環(huán)保的真空泵,轉(zhuǎn)子具有良好的幾何對稱性，故振動小，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，真空泵高，所以多作為真空電子束焊機(jī)的前級泵配置。本公司技術(shù)人員集多年的行業(yè)應(yīng)用經(jīng)驗,借鑒多款歐美產(chǎn)品的優(yōu)點(diǎn),結(jié)合中國用戶的使用維護(hù)習(xí)慣而獨(dú)立開發(fā)的產(chǎn)品.選用優(yōu)質(zhì)配套件,采用先進(jìn)的加工裝配工藝,確保產(chǎn)品的高品質(zhì)及可靠性.DLT.V0300真空泵能長期不間斷運(yùn)行.DLT.V0300真空泵參數(shù)抽氣速率: 300立方米/小時極限壓力: 0.1mbar電    源：380V 電機(jī)功率: 7.5KW重量: 約210KG可按應(yīng)用要求配置多種附件, 體積緊湊，運(yùn)行寧靜，尤其適合各類機(jī)械設(shè)備配套.產(chǎn)品特點(diǎn)：1.設(shè)計精密.結(jié)構(gòu)堅固.重量輕.易于安裝及維護(hù).1.低噪音,低震動,工作環(huán)境不會受影響 2.內(nèi)置高效油霧過濾器,所排出的氣體不含油霧 3.采用風(fēng)冷卻,但較大型的真空泵配有冷卻風(fēng)管,利用風(fēng)扇將風(fēng)管內(nèi)的潤滑油冷卻,提高冷卻效果 4.內(nèi)置止回閥及氣鎮(zhèn)閥，可避免停機(jī)后泵逆轉(zhuǎn)而造成油逆流及避免高真空環(huán)境下，空氣所含水氣經(jīng)壓縮凝結(jié)成水點(diǎn)，造成潤滑油乳化變質(zhì)5.抽風(fēng)量強(qiáng)勁,極限真空可達(dá)到0.1mbar（10Pa）6.運(yùn)轉(zhuǎn)聲音小.大路通真空泵已普遍應(yīng)用于各類儀器真空包裝，橡膠和塑料工業(yè)上的真空吸塑成形，印刷工業(yè)上的紙張輸送，各類鑄件的真空浸漬防漏，機(jī)械加工上的真空夾具，電子半導(dǎo)體工業(yè)上的元器件真空裝夾定位，化工上的真空干燥，過濾，大型機(jī)械零件在空真狀態(tài)下的動平衡試驗以及醫(yī)院手術(shù)室的真空吸引等在本型泵所能達(dá)到的真空范圍的各種真空處理。適用機(jī)械:硫化機(jī)/加硫機(jī)/吸塑機(jī)/層壓機(jī)/橡膠硫化機(jī)/精雕機(jī)/自動化機(jī)械手/吸附加工/真空貼膜機(jī)/食品包裝機(jī)/線路板/薄膜開關(guān)/模具抽真空/真空機(jī)床吸盤/雕銑機(jī)/高光機(jī)/CD紋機(jī)/數(shù)控批花機(jī)/含浸機(jī)/浸漆機(jī)/破波機(jī)/脫泡機(jī)/灌膠機(jī)/點(diǎn)膠機(jī)/注型機(jī)/電子束焊機(jī)

該公司產(chǎn)品分類： 真空泵油 真空泵維修 真空泵配件 旋片式真空泵 真空設(shè)備

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

EB-4電子束實驗儀

 

主要技術(shù)規(guī)格
1、 示波管
　　聚焦電壓：280～380V加速電壓：950～1300V
　　偏轉(zhuǎn)電壓：-50～+50V
　　Y軸電偏轉(zhuǎn)靈敏度>0.7mm/V
　　Y軸偏轉(zhuǎn)靈敏度>0.3mm/mA
2、 適應(yīng)電源： 220V   50Hz
3、 消耗功率：50W
4、 外形尺寸：55×385×200 （180）mm
5、 總重量：10kg
該公司產(chǎn)品分類： 分光光度計 演示物理 近代物理 基礎(chǔ)物理 流體力學(xué)，熱工學(xué)

型號:M292648 電子束實驗儀

電子束實驗儀 型號:M292648  
研究電子在電場和磁場中運(yùn)動變化規(guī)律，可進(jìn)行電偏轉(zhuǎn)、電聚焦磁偏轉(zhuǎn)、磁聚焦、電子荷質(zhì)比實驗。 1、一體化結(jié)構(gòu)，有5只數(shù)顯表獨(dú)立顯示各部分電壓、電流，無須轉(zhuǎn)換就可同時讀數(shù)。 2、采用模塊化設(shè)計，有完善的保護(hù)電路，配以高且?guī)в凶o(hù)套的專用連接線，確保實驗安全、、經(jīng)久耐用。 3、配有可達(dá)3.5A的磁偏轉(zhuǎn)電流源可方便地實現(xiàn)二次聚焦。  

DL08-24053電子束演示儀

 、概述：

       電子束演示儀采用8SJ31G型靜電偏轉(zhuǎn)陰極射線演示管。當(dāng)該管各極加上工作電壓后，從陰極射出具有能量的電子束，由于電子束是不可以用肉眼觀察到的，所以通過將電子束加速增加其動量去轟擊用特殊材料制作成的熒光屏幕，使屏幕發(fā)光，顯示電子束的徑跡。

       儀器的主要用途：(1)演示加速后的電子，在沒有外來電場或磁場的作用時，按直線運(yùn)動。(2)觀察電子束在電場的作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn)。(3)觀察電子束在磁場中所受的洛侖茲力。(4)說明熱電子發(fā)射現(xiàn)象。該儀器設(shè)計合理，體積小重量輕，使用方便，安全可靠，維護(hù)、維修極為便利。

 

 

 

二、技術(shù)性能：

2-1、加速電壓：0～700伏  連續(xù)可調(diào)。

2-2、偏轉(zhuǎn)電壓：幅度為0～50伏  連續(xù)可調(diào)。

2-3、偏轉(zhuǎn)方向：上、下、左、右四個方向。（電場作用）

2-4、顯示方式：熒光屏幕顯示電子束徑跡。

2-5、電源：220V±10％  50Hz。

2-6、功耗：＜30W。

2-7、工作環(huán)境：a)溫度：0～40℃。

                          b)相對濕度：＜85%。

2-8、連續(xù)工作時間：小時。

該公司產(chǎn)品分類： 教學(xué)儀器 照度光譜系列 邏輯棒/筆 測氡儀 氧氣檢測儀 氫氣檢測報警儀 氣體檢測報警儀 熏蒸氣體檢測儀 空氣質(zhì)量檢測儀 垃圾場氣體檢測 酒精測試儀 有毒氣體檢測儀 甲烷檢測儀 可燃?xì)怏w檢測儀/探測儀 復(fù)合氣體檢測儀 苯檢測儀 揮發(fā)性有機(jī)氣體 臭氧檢測分析儀 甲醛檢測/分析 氧氣檢測報警儀

DT306-EB-Ⅲ電子束實驗儀 電子束實驗計

 [儀器特點(diǎn)] 1、本儀器結(jié)構(gòu)簡單，原理直觀，無需另配其它設(shè)備，只用一套實驗儀器就可以做一系列內(nèi)容由淺入深、系統(tǒng)性很的基礎(chǔ)實驗，所得實驗數(shù)據(jù)結(jié)果的精度也很高。做完這一系列實驗之后，學(xué)生對有關(guān)物理現(xiàn)象的理論基礎(chǔ)能有比較深刻的印象。 2、整個實驗儀器安裝在一只鋁合金機(jī)箱內(nèi)，各個單元構(gòu)成模塊化結(jié)構(gòu)，根據(jù)不同實驗的需要，可將相應(yīng)得單元連接成實驗電路，培養(yǎng)了學(xué)生得動手能力，提高了學(xué)生得學(xué)習(xí)興趣，加深了學(xué)生對理論知識得理解。儀器采用一次性鑄模接插件和優(yōu)質(zhì)連接線，性能穩(wěn)定可靠；各電壓電流采用數(shù)顯,并用對應(yīng)的10只指示燈進(jìn)行指示。 3、儀器包含了實驗所需要得所有電源、控制、數(shù)字測量和數(shù)據(jù)顯示等部分，無需配置外部設(shè)備，即可完成所有相關(guān)實驗。 [實驗內(nèi)容] 可做電子在電場和磁場中的運(yùn)動規(guī)律的五項實驗： 1、 電子在橫向勻電場作用下的運(yùn)動 —— 電偏轉(zhuǎn)實驗 2、 電子在縱向不均勻電場下的運(yùn)動 —— 電聚焦實驗 3、 電子在橫向磁場作用下的運(yùn)動 —— 磁偏轉(zhuǎn)實驗 4、 電子在縱向磁場作用下的運(yùn)動 —— 磁聚焦實驗 5、 電子射線的磁聚焦和電子荷質(zhì)比的測定 —— 電子荷質(zhì)比的測定 [技術(shù)參數(shù)] 1、實驗用示波管（8SJ示波管或改進(jìn)型） 加速電壓：800V～1200V，顯示精度1V，三位半LED數(shù)字表顯示 電子束交叉點(diǎn)F到熒光屏的距離 ：0.190 米 柵極電壓：0～-80V  燈絲電壓：AC 6.3V  絲電流：AC 0.15A±0.02A 水平偏轉(zhuǎn)因數(shù)：28.6～40 V / cm  垂直偏轉(zhuǎn)因數(shù)：19.2～26.3 V / cm  Y軸電偏轉(zhuǎn)靈敏度：>0.7mm/V  Y 軸磁偏轉(zhuǎn)靈敏度：>0.3mm/mA 兩對偏轉(zhuǎn)板掃描線間垂直度：90±1.5°  管基：J14-2A12 GB787 2、示波管磁偏轉(zhuǎn)電流：-199.9mA～+199.9mA  示波管磁聚焦電流：-1.700A～+1.700A ,聚焦次數(shù)≥3次 3、配件：示波管 磁聚焦螺線管線圈一只、磁偏轉(zhuǎn)線圈兩只 4、數(shù)據(jù)采集：兩塊三位半LED數(shù)字表顯示各電壓和電流值，帶10個指示燈指示 5、儀器內(nèi)部含有高精度恒流源（研究電子束在磁場中的變化用）,無需外加測量設(shè)備 6、接插件：采用一次性鑄模的優(yōu)質(zhì)接插件和連接線 7、工作電源：AC 220V±5%，50Hz 8、消耗功率：65W 9、總重量：≈18.5kg 10、外形尺寸：480（W）×340（D）×220（H）mm
該公司產(chǎn)品分類： 測氡儀 氧氣檢測儀 氫氣氣體檢測報警儀 氣體檢測報警儀 熏蒸氣體檢測儀 空氣質(zhì)量檢測儀 垃圾場有毒有害氣體測試儀 酒精測試儀 有毒氣體檢測儀 甲烷檢測儀 可燃?xì)怏w檢測儀/探測儀 復(fù)合氣體檢測儀 顯微鏡 苯檢測儀 揮發(fā)性有機(jī)氣體測試儀 臭氧檢測分析儀 甲醛檢測分析儀 二氧化硫檢測儀 檢測儀 氨氣檢測儀

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