化學氣相沉積設備產品及廠家
syskey 緊湊式熱蒸發(fā)系統(tǒng) compact thermal 靈活的基板尺寸，最大可達6英寸- 基板架加熱溫度最高可達500℃- 出 色的薄膜均勻性，誤差小于±3％- 可選配電子束或熱舟蒸發(fā)源（最多3個）- 速率控制沉積- 可沉積多層薄膜，選用特定目標材料- 可選配負載鎖定腔室
更新時間:2025-08-28
高真空濺射系統(tǒng) hv sputter，靈活的基板尺寸，最大可達12英寸或200×200毫米- 基板架加熱溫度最高可達800℃- 出 色的薄膜均勻性，誤差小于±3％- 最多可配備5個6英寸磁控濺射源（可選配3或4個）- 支持射頻、直流或脈沖直流，適用于非導電或導電靶材- 可選配射頻清洗和刻蝕功能- 可沉積多層薄膜，選用特定目標材料- 可與其他沉積系統(tǒng)集成
更新時間:2025-08-28
超高真空磁控濺射鍍膜機 uhv sputter,? 基板支架加熱至 800 °c? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％? 磁控濺射源（數量最多 8 個），可選強磁版本? 用于非導電或導電目標的射頻、直流或脈沖直流? 使用選定的目標材料沉積多層薄膜? 可與其他特高壓沉積系統(tǒng)集成
更新時間:2025-08-28
syskey 高真空熱蒸發(fā)鍍膜機hv thermal，全自動系統(tǒng)可滿足各種應用要求，包括oled、opv、opd等。? 基板支架水冷或油冷? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％? 船和電池源（數量最多 12 個）? 可以共蒸發(fā)和摻雜? 用選定的目標材料沉積多層薄膜- 可與手套箱集成
更新時間:2025-08-28
syskey 超高真空熱蒸發(fā)鍍膜機uhv thermal, ? 靈活的基板尺寸可達 8 英寸? 基板支架加熱至 800 °c? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％? 船和電池源（數量最多 6 個）? 可以共蒸發(fā)和摻雜。? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? 可與其他沉積系統(tǒng)集成
更新時間:2025-08-28
syskey 高真空電子束鍍膜系統(tǒng) hv e-beam,靈活的基板尺寸可達 12 英寸? 基板支架加熱至 800 °c 或水/油/ln2 冷卻? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％? 4/6/8 個口袋電子束源（每個口袋最多 40 cc）? 6 kw 電源可支持大部分材料蒸發(fā)? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? 可與其他沉積技術或沉積系統(tǒng)集成
更新時間:2025-08-28
syskey lift-off e-beam 電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)，靈活的基板尺寸可達 12 英寸? 基板支架水、油或 ln2 冷卻? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％? 4/6/8 個口袋電子束源（每個口袋最多 40 cc）? 6 kw 電源可支持大部分材料蒸發(fā)? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? 負載鎖定是可選的，效率高? 可與其他沉積系統(tǒng)集成? 樣品傾斜是可選的
更新時間:2025-08-28
syskey 超高真空電子束鍍膜 uhv e-beam, ? 靈活的基板尺寸可達 12 英寸? 基板支架水、油或 ln2 冷卻和傾斜? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％? 4/6/8 個口袋電子束光源（每個口袋最多 40 cc）? 6 kw 電源可支持大部分材料蒸發(fā)? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? 2.pngtorr 是可選的鋁基約瑟夫森結? 可與其他沉積系統(tǒng)集成
更新時間:2025-08-28
syskey 積沉多腔體鍍膜系系統(tǒng) pvd cluster,靈活的基板尺寸可達 12 英寸? 基板支架加熱或冷卻? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％? 濺射/電子束/熱/離子蝕刻/氧化/退氣? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? torr 可選擇用于不同的設備- 可與手套箱集成
更新時間:2025-08-28
syskey 小型多腔體鍍膜機 mini cluster, 靈活的基板尺寸可達 2 英寸。? 基板支架加熱或冷卻。? 優(yōu) 異的薄膜均勻性小于 ±3％。? 濺射/電子束/熱/離子蝕刻/氧化/退氣? 用選定的靶材沉積多層薄膜。? torr 可針對不同設備進行選擇。- 可與手套箱集成。
更新時間:2025-08-28
syskey 等離子增強原子沉積 peald,我們生產用于超薄氧化物和氮化物涂層的 ald 和 peald 系統(tǒng)。6 前體線路可支持5種材料沉積，氣體管路拓寬反應窗戶。緊湊的手套箱集成不占用額外的實驗室空間。
更新時間:2025-08-28
syskey 等離子增強化學氣相沉積 pecvd? 靈活的基板尺寸可達 12 英寸? 基板支架加熱至 400 °c? 優(yōu) 異的薄膜均勻性，低于 ±5％? 6 條反應性氣體管路，適用于 sio2、si3n4 沉積? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? 負載鎖定是可選的? 等離子自清潔是可選的? teos 工藝是可選的
更新時間:2025-08-28
syskey rie 反應離子刻蝕機，我們生產用于氧化物和氮化物蝕刻的 rie 系統(tǒng)。氣體管線可實現硅基材料刻蝕。全自動作，支持一鍵工序。
更新時間:2025-08-28
syskey 感應耦合-反應離子刻蝕機 icp-rie,用于氧化物和氮化物蝕刻的 icp-rie 系統(tǒng)。氣體管線可實現金屬蝕刻。全自動作，支持一鍵工序。
更新時間:2025-08-28
syskey 離子束刻蝕機 ibe, 離子束蝕刻（ibe）是一種先 進的蝕刻技術，利用離子源去除來自基材表面的材料具有卓 越的均勻性和精度。國際教育局可以適用于金屬、氧化物、半導體、有機物等多種材料化合物。這種蝕刻方法涉及使用帶電粒子的高能束，通常是氬離子，用于物理去除樣品表面的材料。
更新時間:2025-08-28
syskey cvd cluster 化學氣相沉積，pecvd和peald系統(tǒng)可以組合在一起，實現薄膜的多層沉積封裝。單室僅用于某些薄膜沉淀。樣品在兩者之間轉移自動處理腔室。
更新時間:2025-08-28
德國iplas微波等離子化學氣相沉積 cyrannus 1-6" 2.45ghz系統(tǒng)，德國 iplas公司的獨 家 利多天線耦合微波等離子技術（cyrannus®），可在反應腔中實現高的 sp3 鍵轉化率，使得腔體中充滿過飽和原子氫和含碳基團，從而有效地提高了沉積速率并且使得金剛石的沉積質量得到改善。
更新時間:2025-08-28
德國iplas微波等離子化學氣相沉積 iplas mpcvd 915mhz系統(tǒng),德國 iplas公司的獨家利多天線耦合微波等離子技術（cyrannus®），可在反應腔中實現高的 sp3 鍵轉化率，使得腔體中充滿過飽和原子氫和含碳基團，從而有效地提高了沉積速率并且使得金剛石的沉積質量得到改善，這正是獲取優(yōu)質金剛石的技術基礎。
更新時間:2025-08-28
德國netzsch 差示掃描量熱儀dsc 3500 sirius，該技術操作簡便，分析快速，在研發(fā)、制造和質量檢驗域中逐漸成為不可取代的檢測技術。針對具體材料、產品的應用和性能評估及解析，對應有各種各樣的標準（如astm，din，iso等）。
更新時間:2025-08-28
德國iplas mpcvd cyrannus® 利技術微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)，廣泛應用于第四代半導體，射頻器件，散熱器件，光學窗口等高科技令域，晶圓生長金剛石膜，被譽為半導體終材料。
更新時間:2025-08-28
pe-cvd結構特點介紹：pecvd系列真空管式高溫燒結爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體；2、爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用進口高溫合金電阻絲為加熱元件；3、高純石英管橫穿于爐體中間作為的爐膛，爐管兩端用不銹鋼法蘭密封，工件式樣在管中加熱，加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性；支持定制15611171559.
更新時間:2025-08-18
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-08-13
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業(yè)品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩(wěn)定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-08-13
g10-碳化硅150 mm 和 200 mm – 支持雙晶圓尺寸 – 為您的未來投資提供保障市場上高的晶圓產量 / m2市場上晶圓出色的運行過程性能高度均勻、低缺陷的 sic 外延工藝，可實現大的芯片良率
更新時間:2025-08-13
化合物半導體沉積系統(tǒng)用于研發(fā)的封閉耦合淋浴噴頭® ccs系統(tǒng)“用于研發(fā)和小規(guī)模生產的靈活mocvd系統(tǒng)”
更新時間:2025-08-13
化合物半導體沉積系統(tǒng)“行星式反應器模塊，用于在150/200毫米襯底（si/藍寶石/sic）上應用氮化鎵，可提高生產率和晶圓性能”
更新時間:2025-08-13
化合物半導體沉積系統(tǒng)aix g5 ww c“下一代碳化硅電力電子器件的佳性能，以應對全球大趨勢”高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
更新時間:2025-08-13
化合物半導體沉積系統(tǒng)aix 2800g4-tm （ic2）“基于 gaas/inp 的光電子學和射頻應用的 hvm 佳反應器”
更新時間:2025-08-13
mocvd系統(tǒng)主要由真空室反應系統(tǒng)、氣體（載氣與氣相有機源）輸運控制系統(tǒng)、有機源蒸發(fā)輸運控制系統(tǒng)、電源控制系統(tǒng)、尾氣處理及安全保護報警系統(tǒng)組成。
更新時間:2025-08-13
產品概述：系統(tǒng)主要由真空反應室、上蓋組件、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設備用途：pecvd就是化學氣相沉積法，是一種化工技術，該技術主要
更新時間:2025-08-13
系統(tǒng)主要由3個真空沉積室（分別沉積p、i、n結）、1個進樣室、1個中央傳輸室、平板式電、基片加熱臺、工作氣路、傳送機械手、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、射頻電源、甚高頻電源、尾氣處理裝置、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。
更新時間:2025-08-13
系統(tǒng)主要由真空反應室、上蓋組件、噴淋頭裝置、熱絲架、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。本系統(tǒng)具有pecvd功能和熱絲cvd功能。
更新時間:2025-08-13
用于 5g、光子學和 cmos 的 propel 300mm gan mocvd 系統(tǒng)全自動單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產 5g 射頻、光子學和高 cmos 器件。
更新時間:2025-08-13
epee系列 等離子化學氣相沉積系統(tǒng)單片和多片式架構，滿足量產和研發(fā)客戶需求 advanced single-chip and multi-chip design, meet the needs of mass production and r&d
更新時間:2025-08-13
pd-2201lc 是一種盒式裝載等離子體增強化學氣相沉積 (pecvd) 設備，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)在節(jié)省空間的提下提供了pecvd的所有標準功能。可在直徑220毫米的區(qū)域內沉積具有優(yōu)異厚度均勻性和應力控制的薄膜，并具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復性。用于參數控制和配方存儲。該系統(tǒng)是大規(guī)模生產用薄膜沉積的理想選擇，具有優(yōu)異的重復性。
更新時間:2025-08-13
al-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應沉積薄膜，實現了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數量。此外，可以在高寬比的孔內壁上沉積覆蓋性好、厚度均勻的薄膜？赏瑫r沉積3片ø4英寸的晶片。
更新時間:2025-08-13
pd-220nl 是一種負載鎖定等離子體增強化學氣相沉積 (pecvd) 系統(tǒng)，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。該系統(tǒng)以非常緊湊的占地面積提供了pecvd的所有標準功能？稍谥睆220毫米的區(qū)域內沉積具有優(yōu)異厚度均勻性和應力控制的薄膜，并具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復性。用戶友好的觸摸屏界面，用于參數控制和配方存儲。該系統(tǒng)是研發(fā)用薄膜沉積以及試生產的理想選擇。
更新時間:2025-08-13
pd-3800l是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（pecvd）系統(tǒng)。該系統(tǒng)由于采用了大型反應室，并通過載盤裝載多片晶圓進行批量處理，因此產量較高。在直徑360mm的區(qū)域內可以沉積出具有優(yōu)異的厚度均勻性和應力控制的薄膜，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可重復性。用戶友好的觸摸屏界面用于參數控制和配方存儲。
更新時間:2025-08-13
pd-220n是用于沉積各種硅薄膜（sio2、si3n4等）的等離子體cvd系統(tǒng)。 pd-220n在提供薄膜沉積所需的全部功能的同時，占地面積比本公司的傳統(tǒng)系統(tǒng)小40%。 從尖端研究到半大規(guī)模生產，它的應用范圍很廣。
更新時間:2025-08-13
pd-200stl是一種用于研發(fā)的低溫(80~400℃)、高速(>300nm/min)等離子體增強型cvd系統(tǒng)。samco獨特的液態(tài)源cvd系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)teos源，以低應力沉積sio2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達100μm）。pd-200stl具有時尚、緊湊的設計，只需要小的潔凈室空間。
更新時間:2025-08-13
pd-270stlc是一種低溫(80 ~ 400°c)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強cvd系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產。samco獨特的液態(tài)源cvd系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)teos源，以低應力沉積sio2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達100 µm）。該系統(tǒng)通過采用大氣盒裝載和ø236毫米的托架實現了高產量，可安裝三個ø4英寸的晶圓。
更新時間:2025-08-13
pd-330stc是一種低溫(80 ~ 400°c)、高速(>300 nm/min)的等離子體增強cvd系統(tǒng)，可用于大規(guī)模生產。samco獨特的液態(tài)源cvd系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)teos源，以低應力沉積sio2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達100 µm）。該系統(tǒng)通過采用大氣盒裝載和ø300毫米晶圓的優(yōu)良工藝均勻性，實現了高產量。
更新時間:2025-08-13
pd-100st是一種用于研發(fā)的低溫(80 ~ 400°c)、高速(>300 nm/min)等離子體增強cvd系統(tǒng)。samco獨特的液態(tài)源cvd系統(tǒng)采用自偏置沉積技術和液態(tài)teos源，以低應力沉積sio2薄膜，從薄膜到厚的薄膜（高達100 µm）。pd-100st具有時尚、緊湊的設計，只需要小的潔凈室空間。
更新時間:2025-08-13
本裝置是為了在汽車用head lamp部分提高al的附著性,用plasma,al sputter,cvd法實施sio2 top coating的設備,是縮短生產時間,工序和佳的matching設備.
更新時間:2025-08-13
sentech sipar icp沉積系統(tǒng)是為使用靈活的系統(tǒng)架構的各種沉積模式和工藝開發(fā)和設計的。該工具包括 icp 等離子體源 ptsa、一個動態(tài)溫控基板電和一個受控的真空系統(tǒng)。該系統(tǒng)將等離子體增強化學氣相沉積 （pecvd） 和原子層沉積 （ald） 結合在一個反應器中。
更新時間:2025-08-13
sentech depolab 200 是基本的等離子體增強化學氣相沉積 （pecvd） 系統(tǒng)，適用于沉積用于蝕刻掩模、膜和電隔離膜以及許多其他材料的介電膜。結合了用于均勻薄膜沉積的平行板電設計的優(yōu)點和靈活的直接加載設計。從 2 英寸至 200 毫米晶圓和樣品片的標準應用開始。
更新時間:2025-08-13
最新產品
- 大量供應大業(yè)鍍銅微絲平直型鋼纖維0208多種尺寸可定制生產 2025/8/31 17:32:09
- 大量供應XOREX銑削波紋型鋼纖維LSF38-40抗折效果好 2025/8/31 16:46:25
- 大業(yè)廠家大量供應銑削波紋型鋼纖維路面及橋梁伸縮縫使用 2025/8/31 15:36:03
- 高精度鉚釘拉拔儀2025新升級 2025/8/31 13:55:24
- 高精度涂層附著力測試儀2025新升級 2025/8/31 13:39:30
- 高精度碳纖維粘結強度檢測儀2025新升級 2025/8/31 13:03:52
- 微型錨桿拉拔儀廠家多少錢 2025/8/31 12:49:13
- 塑料拉伸力彎曲測試試驗機 2025/8/31 11:16:55
- 陶瓷高溫抗拉壓彎測試試驗機 2025/8/31 11:15:45
- 重癥患者輸液恒溫加熱器 2025/8/31 8:48:54
- 雙通道輸液加溫儀器設備 2025/8/31 8:48:36
- 輸液加溫器恒溫調節(jié) 2025/8/31 8:46:56
- 野外部隊醫(yī)院輸液恒溫加熱裝置 2025/8/31 8:46:32
- 醫(yī)院ICU病人輸液加溫器 2025/8/31 8:46:15
- 醫(yī)療輸液加溫儀器廠家 2025/8/31 8:45:58
- 醫(yī)用輸液加溫裝置 2025/8/31 8:43:47
- 雙通道輸液恒溫加溫裝置 2025/8/31 8:43:27
- 恒溫輸液加溫儀器 2025/8/31 8:43:09
- 醫(yī)療輸液加溫系統(tǒng) 2025/8/31 8:42:50
- 常熟叉車柴油，常熟柴油配送公司 2025/8/31 6:18:50
- P566272液壓回油過濾器濾芯 2025/8/30 20:09:17
- P566270液壓回油濾清器濾芯 2025/8/30 20:03:37
- P566271液壓油過濾器濾芯 2025/8/30 19:55:39
- 供應鋼錠銑削型鋼纖維Ami04-32-600含錳合金高強鑄鋼 2025/8/30 17:51:14
- DN50/60/80PE碳素管 電力通信專用穿線管 單壁螺旋管 2025/8/30 16:46:17
- 南京地庫劃線，地庫邊緣線，車位線劃線 中心線熱熔標線 2025/8/30 16:44:08
- 集思寶G6單北斗堅固型北斗手持機 2025/8/30 16:36:35
- 華辰北斗智圖GISA Z20北斗短報文終端 2025/8/30 16:34:48
- 華辰北斗彩途K82B北斗手持終端 2025/8/30 16:32:29
- 華辰北斗智圖GISA Z80北斗短報文智能終端 2025/8/30 16:31:00